sahypa_banneri

CVD / PVD proses kameralary üçin ýokary arassalykly alýumin keramiki halka

CVD / PVD proses kameralary üçin ýokary arassalykly alýumin keramiki halka

Gysgaça düşündiriş:

St.Cera-nyň keramiki halkasy, CVD (Himiki bug çökündisi) we PVD (Fiziki bug çökündisi) proses kameralarynda ulanmak üçin ýörite dizaýn edildi. 99,8% ýokary arassa alýumin oksidinden (Al₂O₃) öndürilen bu halka, plazmany çäklendirmek we kamera diwarlaryny eroziýadan goramak üçin kameranyň astar, fokus halkasy ýa-da proses toplumynyň bölegi hökmünde hyzmat edýär. Material ajaýyp plazma garşylygyny, ýokary dielektrik berkligini (15 × 10⁶ V/m) we 1600°C çenli termal durnuklylygy üpjün edýär, bu bolsa agressiw ftor esasly plazma gurşawlarynda uzak hyzmat möhletini üpjün edýär. Takyk ölçegli çydamlylyklar (ID/OD-da ± 0,05 mm) we tekizlik (≤10 μm) wafer gyralarynyň yzygiderli ýerleşmegini üpjün edýär, çökündileriň deňligini gowulandyrýar we bölejikleriň döremegini azaldýar.


Önümiň jikme-jiklikleri

Önümiň tegleri

St.Cera-nyň keramiki halkasy, CVD (Himiki bug çökündisi) we PVD (Fiziki bug çökündisi) proses kameralarynda ulanmak üçin ýörite dizaýn edildi. 99,8% ýokary arassa alýumin oksidinden (Al₂O₃) öndürilen bu halka, plazmany çäklendirmek we kamera diwarlaryny eroziýadan goramak üçin kameranyň astar, fokus halkasy ýa-da proses toplumynyň bölegi hökmünde hyzmat edýär. Material ajaýyp plazma garşylygyny, ýokary dielektrik berkligini (15 × 10⁶ V/m) we 1600°C çenli termal durnuklylygy üpjün edýär, bu bolsa agressiw ftor esasly plazma gurşawlarynda uzak hyzmat möhletini üpjün edýär. Takyk ölçegli çydamlylyklar (ID/OD-da ± 0,05 mm) we tekizlik (≤10 μm) wafer gyralarynyň yzygiderli ýerleşmegini üpjün edýär, çökündileriň deňligini gowulandyrýar we bölejikleriň döremegini azaldýar.

 

Tehniki häsiýetnamalar (99.8% Al₂O₃ esasynda):

Emläk Bahasy
Material 99.8% alýumin oksidi (fil süňkünden)
Dykyzlyk 3.93 g/sm³
Suwuň siňdirilmegi 0%
Bükülme güýji 361 MPa
Synmagyň berkligi 3–4 MPa·m¹/²
Vickers gatylygy 16 GPa
Ýaşyň Moduly 380 GPa
Termal geçirijilik 32 W/m·k
Termal giňelme (25–1000°C) 7.2×10⁻⁶/℃
Dielektrik güýji 15×10⁶ V/m
Özboluşly garşylyk >10¹⁴ Ω·sm
Maksimum işleýiş temperaturasy 1600°C

 

Ulanyşlar:

  • · CVD kamerasynyň fokus halkalary we gyra halkalary
  • · PVD kamerasynyň gorag halkalary we gysgyç halkalary
  • · Oýmak üçin kameranyň astarlary we örtük halkalary
  • · Dielektrik aşındyryş ulgamlarynda plazma çäklendirme halkalary

 

Önümçilik prosesi:

Izostatik presleme → ýaşyl işläp bejermek → 1600°C-de bişirmek → CNC ID/OD üwmek → ýüzi sürtmek → ultrases arassalamak → 100% CMM barlagy. Örän ýumşak ýüz örtügi (Ra ≤0.4 μm) bölejikleriň ýelmeşmegini azaldýar.

 

Hil gözegçiligi:

  • · 100% ölçeg barlagy (ID, OD, galyňlyk, tekizlik)
  • · Boýagyň içine girýän bölekleriniň ýüzündäki mikro çatlaklary barlamak üçin barlag
  • · ASTM D149 boýunça dielektrik berklik synagy
  • · 20x mikroskopda görünýän reňk üýtgeşikligi ýa-da gözeneklilik ýok

 

Metall ýa-da kwarts halkalaryna garanyňda artykmaçlyklary:

  • · Ftor plazmasyndaky alýumin halkalaryndan 5–10 esse uzak ömür
  • · Inçe plýonkalarda metal hapalanmasy ýok
  • · Kwarsdan has ýokary plazma garşylygy (eroziýa çukurlary ýok)
  • · Uzak wagtlap ulanylandan soň hem elektrik izolýasiýasyny >10¹⁴ Ω·sm saklaýar

 

Alternatiw material — Kremniý nitridi (Si)N):

Has ýokary döwülme çydamlylygyny (6.2 MPa·m¹/²) we has gowy termal şok garşylygyny (giňelme koeffisiýenti 3.2×10⁻⁶/℃) talap edýän ulanylyşlar üçin Si₃N₄ halkalary elýeterlidir. Şeýle-de bolsa, alýumin oksidi köp CVD/PVD ulanylyşlary üçin has arzandyr. Sargyt edeniňizde materiala bolan islegiňizi aýdyňlaşdyryň.

 

Özleşdirme:

  • · Montaž üçin deşikler, basgançakly profiller ýa-da garşy deşikler
  • · Plazma garşylygyny ýokarlandyrmak üçin Y₂O₃ bilen örtülen ýüz (isleg boýunça)
  • · Bölek nomeriniň / lot kodynyň lazer bilen oýulmagy

 

Bellik:Ýokardaky maglumatlar berlen Al₂O₃ häsiýet tablisasyna berk eýerýär. Si₃N₄ halkalary üçin berlen aýratyn Si₃N₄ maglumat sahypasyna serediň.


  • Öňki:
  • Indiki: